Servicios


Laboratorio Nacional LIDTRA

Laboratorio Nacional LIDTRA

El proyecto LIDTRA cuenta con infraestructura de vanguardia de nivel internacional con capacidad de apoyar proyectos de investigación básica y de desarrollo tecnológico para las industrias regionales aeronáutica, automotriz y de generación de energía, entre otras. Contribuye a la formación de recursos humanos en el campo de la ciencia y tecnología de recubrimientos de aplicaciones industriales.

LIDTRA complementa el desarrollo de investigaciones de centros de investigación locales con los cuales Cinvestav-Qro ha establecido ha establecido una red activa de colaboración:

CIATEQ, CIDETEQ, CICATA-IPN, en los campos de ingeniería y procesamiento de recubrimientos, así como la evaluación de desempeño por medio de pruebas de corrosión, oxidación a altas temperaturas y propiedades tribológicas.


Misión

Ofrecer investigación de calidad en recubrimientos avanzados y fomentar el desarrollo de recursos humanos altamente especializados a nivel posgrado (maestría y doctorado), capaces de generar ciencia y tecnología para impulsar el desarrollo tecnológico a través de la vinculación academia-industria

Visión

Ser el laboratorio líder a nivel nacional en la investigación y caracterización de recubrimientos avanzados, que contribuya a la solución de problemas tecnológicos a través de vinculaciones con la industria y con otras instituciones académicas y de investigación, impulsando además la formación de Recursos humanos de alto nivel.

Objetivos

  • Científico : Desarrollar investigación científica de vanguardia (síntesis y procesamiento, estructura, propiedades y desempeño) en recubrimientos avanzados.
  • Académico : Formar  recursos humanos (maestría y doctorado) en temas de frontera de recubrimientos avanzados.
  • Tecnológico : Reforzar lazos de vinculación academia-industria y resolver problemas tecnológicos de interés nacional y g enerar productos tecnológicos: (patentes y derechos de invención.)

 

  • Obtención de foto micrografías con resolución de hasta un nanómetro (1 nm) en ultra alto vacío y/o foto micrografías con resolución de 10 nanómetros (10 nm) en modo ambiental; con profundidad de campo (3D) de la superficie revelando la microestructura, morfología y topografía de los materiales.
  • Determinación de composición química elemental por espectroscopía de energía dispersiva (EDS).
  • Determinación de composición química elemental cuantitativo por espectroscopía de longitud de onda (WDS).
  • Determinación de composición química elemental por micro fluorescencia de rayos X para determinación hasta de 0.01% en peso.
  • Determinación de la cristalinidad de manera local a través de la técnica de difracción de electrones retrodispersados (EBSD). Además de tamaño de grano y fases presentes.
  • Acondiciona las secciones transversales y superficies planas para microscopía electrónica de barrido (SEM), análisis de microestructuras (EDS, WDS, Auger, EBSD) e investigaciones AFM.

mas información

Análisis Cualitativo: Identificación de Fases Cristalinas por XRD

El análisis cualitativo mediante difracción de rayos X tiene como objetivo identificar las fases cristalinas presentes en una muestra sólida (polvos, recubrimientos, cerámicos, metales, polímeros, arcillas, etc). Se basa en comparar el patrón de difracción experimental (2θ vs. intensidad) con patrones estándar contenidos en bases de datos como ICDD (PDF-5+2025).
Cada compuesto cristalino genera un patrón único de difracción, como una "huella digital", determinado por su estructura atómica y parámetros de celda. Mediante el reconocimiento de posiciones e intensidades de picos, se identifican las fases presentes en la muestra, incluso si existen en forma de mezclas.
Análisis Cuantitativo de Fases Cristalinas por XRD

El análisis cuantitativo por difracción de rayos X (XRD) permite determinar las proporciones relativas de las fases cristalinas presentes en una muestra. A diferencia del análisis cualitativo, que identifica las fases, el análisis cuantitativo calcula el porcentaje en peso (cuantitativo) o volumen (semicuantitativo) de cada una.
Se basa en la intensidad relativa de los picos de difracción asociados a cada fase. Para realizarlo, se utilizan métodos como el RIR (Reference Intensity Ratio) para el análisis semi-cuantitativo o el refinamiento estructural por Rietveld (Fullprof Suite) para análisis cuantitativo; que consideran no solo la intensidad de los picos, sino también factores como la cristalinidad, absorción y parámetros estructurales.

mas información

Rugosidad 3D sobre áreas particulares de la muestra.
Distribución de defectos o partículas dentro del área a medir
Altura de un escalón o diferencia de alturas entre características de la muestra.

mas información

Preparación de muestras

Corte. Montaje, desbaste grueso, despaste fino y pulido final.
Para la extracción de muestra analizar de un material, se utiliza técnicas, equipo y consumibles especiales para el desarrollo de la preparación de una muestra metalográfica, obteniendo un pulido de alta calidad para la medición y caracterización de ella.
Pruebas mecánicas
Se ofrece medición ensayo de pruebas, cuyo fin es determinar las propiedades mecánicas de un material por tracción, compresión, y Flexión.

Prensado de polvos

Es obtener que las partículas de polvo se unan entre sí y se facilite las reacciones entre ellas, o bien que las partículas formen su estructura aglomerándose y permitir la densificación.
La compactación se obtiene en la prensa uniaxial usando dados de acero con una dureza especial en diferentes diámetros, Se realiza en polvos metálicos, cerámicos y polímeros, Usando las presiones requeridas para la elaboración de la pastilla.

mas información

XPS

Espectroscopía de Fotoelectrones por rayos X en materiales con compatibilidad en ultra-alto vacío (UHV): Polvos, películas delgadas, polímeros, cerámicos, etc. Incluye ajustes de los datos por pico.

  • Identificación elemental de la superficie del material, exceptuando hidrógeno (H) y helio (He), mediante el programa Avantage®.
  • Adquisición de espectros de alta resolución de los orbitales principales de los elementos solicitados.
  • Se realiza el ajuste de picos de los espectros de fotoemisión obtenidos utilizando el programa Avantage®.

Espectroscopía de Fotoelectrones por rayos X en materiales con compatibilidad en ultra-alto vacío (UHV): Polvos, películas delgadas, polímeros, cerámicos, metales, etc. Incluye el ajuste de los datos por pico y análisis de composición

  • Identificación elemental de la superficie del material, exceptuando hidrógeno (H) y helio (He), mediante el programa Avantage®.
  • Adquisición de espectros de alta resolución de los orbitales principales de los elementos solicitados.
  • Se realiza un análisis cualitativo de la composición química de la superficie mediante el programa Avantage®.
  • Se lleva a cabo el ajuste de picos de los espectros de fotoemisión.
  • Se calculan los porcentajes atómicos de los elementos detectados.

Espectroscopia de Fotoelectrones por rayos-X con resolución angular (ARXPS) en películas conformes y superficies planas con compatibilidad en ultra-alto vacío (UHV), incluye el análisis de ajustes de picos de los espectros de fotoemisión.

  • Identificación elemental de la superficie del material, exceptuando hidrógeno (H) y helio (He), mediante el programa Avantage®.
  • Adquisición de espectros de alta resolución de los orbitales principales de los elementos solicitados.
  • Las mediciones de ARXPS permiten obtener información a diferentes profundidades (hasta los primeros 8-10 nm de la superficie), sin modificar ni dañar la muestra. Se miden 6 ángulos desde 35° hasta 85°.
  • Se realizan mediciones de ARXPS y se utiliza el software Avantage® para el ajuste de picos de los espectros de fotoemisión.

Espectroscopia de Fotoelectrones por rayos-X con resolución angular (ARXPS) en películas conformes y superficies planas con compatibilidad en ultra-alto vacío (UHV), incluye ajustes por picos y análisis en función de la profundidad (máximo 8-10 nm).

  • Identificación elemental de la superficie del material, exceptuando hidrógeno (H) y helio (He), mediante el programa Avantage®.
  • Adquisición de espectros de alta resolución de los orbitales principales de los elementos solicitados.
  • Se realizan mediciones de ARXPS para determinar cuantitativamente la composición química a distintas profundidades. Se miden 6 ángulos desde 35° hasta 85°.
  • Se realiza un análisis cualitativo de la composición química de la superficie mediante el programa Avantage®.
  • Se lleva a cabo el ajuste de picos de los espectros de fotoemisión.
  • Se calculan los porcentajes atómicos de los elementos detectados.
  • Se determina el espesor de las capas sin afectar la muestra.
  • Análisis del perfil de profundidad (hasta los primeros 8-10 nm de la superficie).

mas información

Reflexión total atenuada (ATR) con punta de diamante en el infrarrojo medio En este método, la muestra se pone en contacto con un cristal de diamante a través del cual incide la radiación infrarroja. Para muestras con índice de refracción menor al del diamante (2.4), se obtiene un espectro de reflexión alta con bandas de absorción que corresponden a grupos funcionales presentes en la muestra.

mas información

  • Medición de la difusividad térmica, calor específico y la conductividad térmica desde temperatura ambiente hasta 1100ºC.
  • Medición de ciclos de histéresis de polarización, capacitancia, corrientes de fuga etc., tanto para películas delgadas como muestras en volumen con alta fidelidad, aplicando voltajes de polarización para películas delgadas de 0 a 10 V y en muestras en volumen se acopla a una fuente de alto voltaje con la capacidad de aplicar 4kV de frecuencia variable hasta de 2KHz.
  • Determinación de la difusividad térmica por fotoacústica, detección fotopiroeléctrica y lente térmico.
  • Estudio de las propiedades ópticas de materiales y medición de color por reflectancia.

mas información

Efectos térmicos con forma de picos, caracterizados por su cambio de entalpía e intervalo de temperatura. Ejemplos: fusión, cristalización, transición sólido-sólido, reacción química (polimerización, curado, oxidación, entrecruzamiento,, etc.),

  • Cp (capacidad calorífica específica),
  • Efectos térmicos causados por cambios en la capacidad calorífica, como es la transición vítrea,
  • Pureza.

mas información

LIDTRA-Microsonda

  • Microsonda Electrónica JEOL para Microanálisis (EPMA) JXA - 8530F con espectros EDS y WDS.
  • Microscopio electrónico de Barrido ambiental. Philip XL30 ESEM
  • Ion Beam
  • Sputtering para recubrimiento de muestras con películas de grafito u oro para análisis en microsonda.


ICP-OES

  • ICP-OES: (Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry) . Marca: HORIBA Modelo: ULTIMA 2
  • Reactor de microondas tipo monomodo. Monowave 300.
  • Microondas. Multiwave PRO.


Transporte Térmico

  • Laser Flash  LFA 1000 Marca Linseis.


Análisis Térmico

  • Calorímetro Diferencial de Barrido DSC 822e MT (Intervalo de temperatura: -65°C a 700°C).


Preparación de Muestras Metalográficas

  • Máquina Universal Mca. Instron Mod. 5690, cap. 5kN
  • Cortadora de metalográfica, Modelo: Mecatome T-260, Marca: PRESI
  • Cortador a de disco de diamante, Modelo: Accutom-50,Marca: Struers
  • Montadora: Modelo: LaboPress-1,Marca: Struers
  • Pulidoras de disco de velocidad variable, Modelo: MINITECH 233,Marca.PRESI (1=Desbaste y 2=Pulir)
  • Prensa para compactar polvos metálicos, cerámicos y poliméricos, Mca Davi ap. 50 Ton.


Perfilometría y Nanoindentación

  • Nanoindentador IBIS de Fischer Cripps
  • Perfilómetro Bruker 3D InMotion

 

Difracción de Rayos X

  • Dmax2100 de RIGAKU
  • ULTIMA IV de RIGAKU

 

Procesamiento y Caracterización de Nanopelículas (LPCN)

  • Espectroscopia Fotoelectrónica por Rayos-X (XPS) Marca: Alpha 110, ThermoFisher Scientific
  • Sputtering de Alta Pureza

  

Espectrofotómetro de Infrarrojo con Transformada de Fourier (FTIR)

  • El FTIR opera en el Medio y Cercano Infrarrojo (MIR y NIR)
  • Reflectancia Totalmente Atenuada (ATR) con punta de Diamante y Selenuro de Zinc (ZnSe). El ATR con ZnSe cuenta con un sistema de calentamiento controlado desde temperatura ambiente a 120°C.
  • Reflectancia Especular con ángulo variable de 30 a 80° (MIR y NIR) y con polarizador de KRS-5.
  • Kit de Transmisión para películas, polvos y líquidos en el MIR y para películas en el NIR.
  Dr. Jesús González Hernández
jesusgonzalez@cinvestav.mx
Tel. 4422119947
Coordinación Técnica
ctecnica.qro@cinvestav.mx
Tel. 4422119919

 

 

Ubicación

Print
CONTÁCTENOS

Logo Cinvestav

Libramiento Norponiente No. 2000
Fracc. Real de Juriquilla. C.P. 76230
Santiago de Querétaro, Qro. México

Tel. +52 442 2119 900

Cinvestav © 2025
13/06/2023 12:14:04 p. m.